西澤 丞 (著),
木村 俊幸 (監修)
出版社: グラフィック社 (2008/02)
イラスト、漫画、CGアートワーク、マットペイトなど、「背景」を描く(作る)ことに関わる、すべてのクリエイターに向けた、フォト資料集「
背景ビジュアル資料シリーズ」第3弾。
本書では、日本の特殊研究施設や巨大工場を網羅。
研究潜水艇・しんかい6500、ピカソ、支援母船、造船所、製鉄所、原子力研究機関、宇宙開発天文台など、総600カットにわたり掲載。
一般には入れない研究施設内部は、まるで映画のセットのような見たこともない異空間、クリエイティブな資料として最適です。
トレース・アレンジのレクチャーなども収録、バリエーションに富んだ背景製作を可能にする一冊。
各巻末には、それぞれの研究施設から寄せられた貴重な施設資料、公開施設にはアクセス方法や詳細、地図などを付録として掲載。
2008/05/05(Mon)16:04